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透明晶圆缺陷扫描Lumina AT1 简介: Lumina AT1可以在4分钟内完成150毫米晶圆的扫描,对于基底上下表面的颗粒、凸起、凹陷、划痕、内含物等缺陷均可一次性成像。在透明基底,如玻璃,化合物半导体如氮化镓、砷化镓、碳化硅等样品上有*特的优势。也可用于薄膜涂层的成像厚度变化的全表面扫描。 较大样品300 x 300 mm。 厂商简介 Lumina Instruments,总部位于美国加利福尼亚州圣何塞,公司创始人在透明、半透明和不透明基板全表面缺陷检测创新了更快速准确的方法,因此创建了革命性的仪器品牌lumina. 技术创新 将样片放入系统中,3~5分钟即可完成扫描。 收集的数据将被分析,图像和缺陷图将由LuminaSoft软件生成。 感兴趣的缺陷可在扫描电子显微镜(SEM)、椭偏仪、显微镜等上进行进一步分析。 将样品放入系统 直径为30微米的绿色激光以50毫米的直线运动,反射光和散射光由四个探测器捕获。 四通道检测 AT1有四个检测通道。它们同时运行以生成四个独立的图像。每个通道有助于检测和分类某些缺陷。 较化:薄膜缺陷、污渍 反射率:划痕、内应力*、玻璃内的条纹* 坡度:划痕、凹坑、凸起、表面形貌 暗场:纳米颗粒、包裹体 AT1应用案例: 透明/非透明材质表面缺陷的检测。 MOCVD外延生长成膜缺陷管控 PR膜厚均一性评价 Clean制程清洗效果评价 Wafer在CMP后表面缺陷分析 多个应用领域,如ARVR、Glass、光掩模版蓝宝石、Si wafel等、