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沈阳鹏程真空技术有限责任公司
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发布时间：2022-02-10
电子束结构介绍
粒子增速器的结构可以与显像管类比。显像管中的电子对应于增速器的电子或离子源，显像管中加速电子用的高压电极对应于增速器中的高压加速电极及加速腔。显像管中控制电子运动的电偏转板与聚焦电子的聚焦线圈，对应于增速器中控制粒子运动轨道和聚焦粒子束流的多种电磁部件，分子束外延设备公司，如导向磁铁、聚焦磁铁、多较校正磁铁等。对粒子增速器的粒子运行管道来说，分子束外延设备厂家，为了减少粒子在运动中与残余气体碰撞而造成粒子的丢失和束流性能变坏，所要求的真空度比显像管要高数千到数万倍。随着科学技术的不断发展，分子束外延设备，根据科学家对粒子能量和流强的不同要求，陆续产生了不同原理、不同结构的多种增速器。
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电子束镀膜的溅射方式
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溅射方式是用高速正离子轰击靶材表面，通过动能传输，令靶材的分子（原子）有足够的能量从靶材表面逸出，在产品表面凝聚形成薄膜。
用溅射的方法制镀的薄膜附着性强，薄膜的纯度高，可以同时溅射多种不同成分的材料，但是对靶材的要求高，不能象电子一样节约资源。
目前运用较多的有磁控溅射，分子束外延设备价格，磁控溅射是指平行于阴极表面施加强电场，将电子约束在阴极靶材表面附近，提高电离效率。它是操作比较简单的一种，所以运用非常广。
电子束镀膜设备介绍
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电子束蒸镀（Electron Beam Evaporation）是物理气相沉积的一种。与传统蒸镀方式不同，电子束蒸镀利用电磁场的配合可以地实现利用高能电子轰击坩埚内靶材，使之融化进而沉积在基片上。电子束蒸镀可以镀出高纯度的薄膜。
